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      1. ■ 真空鍍膜設備(CVD/PVD)

         

        真空鍍膜設備(CVD/PVD)主要用于薄膜沉積工藝,是一連串涉及原子的吸附,吸附原子在表面的擴散及在適當的位置下聚結,在晶圓上沉積一層待處理的薄膜的過程。


        產品列表

        真空烤盤爐
        +
        APCVD 常壓化學氣相沉積
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        碳化硅單晶爐
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        日本一级婬片人妻
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